В Санкт-Петербурге разработали установку для вакуумного магнетронного нанесения сверхтонких покрытий

В Санкт-Петербургском политехническом университете Петра Великого была разработана установка для вакуумного магнетронного нанесения ультратонких покрытий, сообщает пресс-служба Минобрнауки.

 Оборудование сможет заменить иностранные аналоги и модернизировать устаревшие установки. Оно предназначено для осаждения материалов на кремниевых, карбидных, алмазных и кварцевых подложках. Основная цель — обеспечить нанесение металлических слоев толщиной от 10 нм до десятков микрон для нужд полупроводниковой отрасли. Продукты, полученные таким образом, находят применение в микроэлектронике, оптоэлектронике и других отраслях.

 Во время процесса магнетронного осаждения мишень, которая является источником материала, играют важную роль. Под воздействием напряжения и потока инертного газа образуется плазма, что приводит к образованию ионов и выбиванию атомов. Это позволяет создать наложение тончайших слоев на поверхности.

 Установка сможет заменить иностранные аналоги и модернизировать устаревшее оборудование. Она также позволит работать с различными специализированными материалами, включая индий-олово.